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    光刻工藝HMDS鍍膜機,MOS器件HMDS鍍膜 機

    光刻工藝HMDS鍍膜機,MOS器件HMDS鍍膜 機

    簡要描述:

    光刻工藝HMDS鍍膜機,MOS器件HMDS鍍膜 機涂布工藝是改善晶圓表面接觸角的關鍵步驟。

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    光刻工藝HMDS鍍膜機,MOS器件HMDS鍍膜 機用途: 
      光刻膠倒膠缺陷對于最終的產品良率有著極大的影響。光刻膠倒膠缺陷的產生,很大一部分原因是由于晶圓表面接觸角不佳。光刻的六甲基二硅胺烷(HMDS)涂布工藝正是改善晶圓表面接觸角的關鍵步驟。
    光刻工藝HMDS鍍膜機,功率MOS器件HMDS鍍膜機特點:

    1.HMDS是以氣態形式氣相涂布在器件(硅片、氮化鎵、砷化鎵、藍寶石、玻璃、陶瓷等材料)表面;

    2.在顯影過程中無需去除硅片表面的HMDS層;

    3.在HMDS上面滴光刻膠甩涂時,光刻膠內的溶劑不會破壞HMDS層;

    4.多余的HMDS蒸汽將由真空泵抽出,排放到專用廢氣收集管道,不會造成環境污染;

    5.所有制程都在密閉的腔體內完成,操做是不會接觸到HMDS蒸汽,該設備具有HMDS藥液泄漏檢測報警裝置;

    6.可保存多個產品制程,制程工藝一鍵完成,無需值守人員。

    光刻工藝HMDS鍍膜機,MOS器件HMDS鍍膜 機技術性能:

    1.設備品牌:雋思                                                        
    2.工作室尺寸(mm): 450*450*450,500*500*600 可定制

    3 外形尺寸:以實物為準

    4. 材質:設備內腔采用優質耐腐蝕、耐高溫316L醫用級不銹鋼,外箱采用優質冷軋板靜電噴塑或優質不銹鋼,

    5. 溫度使用范圍 :80-200℃ 

    6. 溫度分辨率 :0.1℃

    7. 溫度波動度: ≤±0.5

    8. 真空壓力: ≤100pa 

    9.數據記錄:可記錄溫度、壓力等工藝數據

    10.工藝安全:具有溫度鎖定功能

    11.管路加熱:藥液輸送管道可預熱

    12. 控制模式 :人機界面+PLC

    13.藥液瓶 :優質耐壓防爆型

    14. 藥液控制 :可控制HMDS藥夜添加量

    15.真空泵:旋片式油泵或渦旋干泵

    16. 保護裝置:HMDS藥液泄漏檢測裝置,HMDS自動添加,超溫保護,漏電保護,過熱保護等


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