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    快速熱處理退火爐,半導體RTP快速退火 爐

    快速熱處理退火爐,半導體RTP快速退火 爐

    簡要描述:

    快速熱處理退火爐,半導體RTP快速退火 爐可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火,硅化物形成,歐姆接觸制備以及快速氧化,快速氮化等方面。該設備具有很好的長時間工作穩定性以及快速升降溫,慢速升降溫功能

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    快速熱處理退火爐,半導體RTP快速退火 爐簡介

    快速退火爐(RTP)近年來得到越來越廣泛的應用。可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火,硅化物形成,歐姆接觸制備以及快速氧化,快速氮化等方面。該設備具有很好的長時間工作穩定性以及快速升降溫,慢速升降溫功能,采用三回路閉環溫度控制,精確的溫度控制部件可適用于特殊工藝要求,工藝重復性高,也可用于鐵電膜的制備以及各種半導體材料CVD的熱處理。

    JS-RTP系列快速熱處理退火為我公司根據客戶需求專業定制的熱處理設備,半導體RTP快速退火爐主要用于:快速燒結快速退火工藝。具有溫度均勻控制穩定等特點觸摸屏操作方式(設備小巧,節約空間)

     

     

    快速熱處理退火爐,半導體RTP快速退火 爐主要技術參數

    1、外型形式:臺式

    2、樣品尺寸:2-8英寸

    3、外部爐膛:合金鍍金爐膛

    4、內部爐膛:優質石英材質、可拆下清洗,有進、出氣接口

    5、加熱材質:紅外線燈管加熱

    6、顯示:觸摸屏或電腦式

    7、溫度范圍:300-1000℃ 

    8、控溫精度:±5

    9、升溫速率:10℃-50/S可調

    10、降溫速率:10℃-50℃/S不可調

    11、降溫方式:水冷(冷水機或冷水管道+氣冷)

    12、工藝氣體:三路,一路氮氣、一路空氣、一路氧氣,配備質量流量計,氣體流量動調節
    13、真空度:可達0.05torr(可選配)
    14、真空系統:進口無油真空泵
    15、保護系統:超溫保護,流量保護,計時控制,缺水報警等。

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