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    HMDS涂布機,HMDS涂膠烤箱

    HMDS涂布機,HMDS涂膠烤箱

    簡要描述:

    HMDS涂布機,HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理, HMDS 涂布的原理,較常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷(HMDS)。在提升光刻膠的黏附性工藝中,實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的,而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結構,從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。

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    HMDS涂布機,HMDS涂膠烤箱原理:

      HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理, HMDS 涂布的原理,常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷(HMDS)。在提升光刻膠的黏附性工藝中,實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的,而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結構,從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。

      光刻膠與晶圓表面之間的黏附性問題,除了受到分子鍵合的影響,還受到其他重要因素的影響。如表面的水分就是其中的主要因素,會減少黏附性,從而造成掀膠和側向腐蝕。HMDS 涂布是涂膠前對硅片表面進行處理,可以增加硅片表面水分子的接觸角,使硅片表面從親水性轉化為疏水性。

      HMDS 涂布機采用蒸汽涂布的方式。簡單評價晶圓的表面黏附性好壞,可以將晶圓進行 HMDS 涂布,然后在晶圓的表面滴一滴水珠,然后通過測量水珠的接觸角,來進行晶圓表面黏附性好壞的判斷。接觸角的測量方法如下圖所示,當接觸角角度越大,說明黏附性越好,也就意味著疏水性越強。

    HMDS涂布機,HMDS涂膠烤箱技術參數:


    項目

    雋思JS-HMDS90-AI

    內膽大小

    450*450*450(可選數據)

    cycle run(4寸產品)

    200

    溫度范圍

    室溫+10-250

    HMDS加熱功能

    HMDS流量控制

    時間/調壓閥,無flow meter

    尾氣排放

    溫度精度

    分辨率:0.1 波動度:±1℃

    真空泵

    油泵或愛德華干泵133PA 

    載物托架

    兩層

    溫度控制

    微電腦智能控溫儀

    Recipe設定

    人機交互界面,PLC編程

    N2循環

    真空/N2 循環

    HMDS系統

    自動添加、自動吸取、添加量控制

    保護裝置

    緊急停止,跳電保護,超溫保護

    其他

    耐高溫手套,說明書


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