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    HMDS預處理系統報價

    HMDS預處理系統報價

    簡要描述:

    HMDS預處理系統報價它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。

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    HMDS預處理系統報價

    1. 工作室尺寸 300×300×300,450×450×450,550×650×550(mm)可自定

    2.材質外箱采用304不銹鋼/冷軋板噴塑,內箱采用316L醫用級不銹鋼

    3.溫度范圍  RT+10-250℃

    4. 溫度分辨率  0.1℃

    5. 溫度波動度  ≤±0.5℃

    6. 真空度  ≤133pa(1torr)

    7. 潔凈度  class 100,適用100級光刻間凈化環境

    8.真空泵  旋片式油泵/干泵

    9.控制儀表  人機界面

    10.擱板層數  2層

    HMDS預處理系統報價

    在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅胺)可以很好地改善這種狀況。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。

     

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