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    HMDS烘箱結構,HMDS涂布機原理

    發布時間:2018-05-07   點擊次數:6618次

    HMDS烘箱結構,HMDS涂布機原理

    HMDS,即六甲基二硅胺,是半導體光刻工藝中一種常見的耗材。HMDS是一種易揮發的化學品,傳送到工藝腔的HMDS是以氣態形式存在的,其均勻附著在晶圓表面,形成HMDS膜層。

    HMDS烘箱結構,HMDS涂布機原理

    現有技術中,涂布過程一般先在氮氣的保護下對晶圓進行加熱,同時通入HMDS進行涂布,但由于前期氮氣的通入,為了保證HMDS的濃度及擴散效果,必須增加HMDS的通入量,才能使其濃度達到一定范圍,這樣勢必造成HMDS的浪費,且HMDS為有害氣體,過高濃度的排放會對環境造成嚴重破壞。

    HMDS烘箱,HMDS涂布機技術參數

    工作室尺寸

     350×350×350、450×450×450、850×850×850(mm)可自定義

    材質

     外箱采用冷軋板噴塑或304不銹鋼,內箱采用316L醫用級不銹鋼

    溫度范圍

     RT+10-250℃

    真空度

     133pa(1torr)

    潔凈度

     class 100,設備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環境

    控制儀表

     人機界面

    擱板層數

     2層

    HMDS控制

    可控制HMDS藥夜添加量

    真空泵

    旋片式油泵(可選配進口無油泵)

    保護裝置

    HMDS低液位報警,HMDS自動添加,超溫保護,漏電保護,過熱保護等

     

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