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    HMDS真空烤箱的特點

    發布時間:2013-09-10   點擊次數:4235次

    HMDS真空烤箱的特點
      來源: 上海雋思實驗儀器有限公司

    一、HMDS真空烘箱技術參數:

    電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%

    輸入功率:2400W

    控溫范圍:室溫+10-250

    溫度分辨率:0.1

    溫度波動度:±0.5

    達到真空度:133Pa

    容積:90L

    工作室尺寸(mm):450*450*450(可選擇)

    載物托架:2

    二、HMDS真空烤箱的使用優點

    1、JS-HMDS真空烤箱預處理性能更好,由于是在經過數次的氮氣置換再進行的HMDS處理,所以不會有塵埃的干擾,再者,由于該系統是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進行,晶片在容器里先經過100℃-200℃的去水烘烤,再接著進行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機會大大降低,所以有著更好的處理效果。

    2、處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態涂布不可比擬更好的均勻性。

    3、效率高,液態涂布是單片操作,而本系統一次可以處理多達4盒的晶片。

    4、更加節省藥液,實踐證明,用液態HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統處理4盒晶片所用藥液還多;

    5、更加環保和安全,HMDS是有毒化學藥品,人吸入后會出現反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整個過程是在密閉的環境下完成的,所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機,所以也不會對環境造成污染。

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